Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08)

Установка вакуумного напыления ВН-2000 (-08), как и ее аналог предыдущего ВН-2000, предназначена для получения вакуума в рабочем объеме, нанесения пленок в вакууме из проводящих, полупроводниковых и диэлектрических материалов методом магнетронного, резистивного и электронно - лучевогого распыления, а также для травления материалов в плазме (в зависимости от комплекта поставки).

Конструктивные особенности

Установка может быть применена для исследования в области физики, химии, биологии, медицине, материаловедении, микроэлектроники и других отраслях, а также отработки отдельных технологических операций по напылению.

Установки могут эксплуатироваться при температуре окружающего воздуха от 10 °С до 35 °С, относительной влажности не более 80 % и атмосферном давлении от 84 кПа до 106,7 кПа.

Электрическое питание установки должно соответствовать:

• Напряжение, В 380/220;
• Частота, Гц 50.
• Качество электрической энергии по ГОСТ 13109.
• Потребляемая мощность установки должна быть не более 3кВА

Автоматическая система управления вакуумной частью ВН-2000 (-08), возможность визуального контроля электрических параметров блоков на цифровом табло, новая элементная база и возможность использования большего числа дополнительных аксессуаров позволяет значительно облегчить работу пользователя и расширить функциональные возможности установки.

Устройство и принцип работы

Установка выполнена в виде двух стоек - электрической и вакуумной. Стойки располагаются рядом и соединяются между собой питающими, силовыми и сигнальными кабелями.

В электрической стойке размещены:

• блок распределительный;
• блок питания высоковольтный;
• блок трансформаторов;
• блок управления;
• пульт управления;
• блок питания турбомолекулярного насоса БПТ-1000.

В вакуумной стойке расположена вакуумная система. Кроме вакуумной системы в данной стойке расположены:

• рабочий объем
• система напуска газа в рабочий объем;
• система водяного охлаждения турбомолекулярного насоса.

В рабочий объем устанавливаются устройство для термического испарения и устройство осаждения пленок.